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检测设备
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KH2200TC – 离子刻蚀微调机(独立温控)
Model: KH2200TC
采用离子刻蚀方式对晶体进行频率 微调。
每盘可放48只晶体,最多8只晶体进行同步微调,温度可控範圍由室溫至120°C(+/-0.2°C)。
每只晶体於載盘上独立温控,以增加整盘晶体的温度平均性及精準度。
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SKU:
KH2200TC
Categories:
微调机系列
,
检测设备
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