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微调机系列
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KH2200TC – 离子刻蚀微调机 (独立温控 )
Model: KH2200TC
采用离子刻蚀方式对晶体进行频率微调
每盘可放48只晶体,最多 8只晶体进行同步微调 (1),温度可控範圍 , 由 室溫 至120 OC +/-0.2 OC
每只晶体於載盘上独立温控,以增加整的度平均性及精準
於完成微调後,显示结果画面进行品质监控不影响下批次生产
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微调机系列
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