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新产品发布 KH2200TC 离子刻蚀微调机(独立温控)

新产品发布

KH2200TC 离子刻蚀微调机(独立温控)

 每盘可放48只晶体,最多8只晶体进行同步微调,温度可控範圍由室溫至120°C(+/-0.2°C)。
 每只晶体於載盘上独立温控,以增加整盘晶体的温度平均性及精準度。

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